大型真空等離子體清洗設(shè)備VPS-RF210簡介：

VPS-RF210是一款大型真空等離子體清洗設(shè)備，適用于大批量工業(yè)生產(chǎn)使用。等離子體清洗通過其中的活性離子與物體表面發(fā)生化學反應來達到清洗的目的。例如通過氧氣清潔物體表面的有機物，產(chǎn)生氧化反應，氧等離子體和污染物產(chǎn)生二氧化碳、氧化碳和水。通過氮氣電離形成的等離子體可以與部分子結(jié)構(gòu)發(fā)生關(guān)鍵反應，因此它也是一種活性氣體，但與氧氣和氫氣相比，顆粒相對較重；在清洗和活化的同時，可以達到一定的轟擊和蝕刻效果，防止部分金屬表面氧化。如今，等離子清洗機廣泛用于當代半導體、電路等行業(yè)，在元件封裝前、芯片鍵合前可借助等離子清洗處理，其優(yōu)點是清除效率高，不會對樣品表面造成損傷，從而提升產(chǎn)品的質(zhì)量。

大型真空等離子體清洗設(shè)備特點：歐美放電技術(shù)，專業(yè)型放電結(jié)構(gòu)，科學仿真等離子體分布均勻，處理效果均勻。

產(chǎn)品應用：提高親水性、改善粘接性、表面微刻蝕、有機物去除、提高表面能、提高印刷油墨附著力。

產(chǎn)品參數(shù)：